射頻電源目前主要被用來在低壓或常壓下產生等離子體。由于不同氣體的等離子體具有不同的化學性能，如氧氣的等離子體具有很高的氧化性，能氧化光刻膠反應生成氣體，從而達到清洗的效果，如半導體設備中的去膠機；腐蝕性氣體的等離子體具有很好的各向異性，這樣就能滿足刻蝕的需要，如半導體設備中的刻蝕機。
　　射頻電源已廣泛應用于半導體工藝設備；LED與太陽能光伏產業；科學實驗中的等離子體發生；射頻感應加熱；醫療美容；常壓等離子體消毒清洗等。